Intel Foundry và ASML đã công bố thành tựu trong việc áp dụng quy trình sản xuất công nghệ chiếu sáng cực tím (EUV) cao NA (Aperture số) thế hệ tiếp theo và lộ trình công nghệ trong tương lai.
Theo thông tin từ ngành công nghiệp vào ngày 8 tháng 9, Intel Foundry đã chia sẻ tình hình hợp tác tại hội nghị 'Công nghệ mặt nạ SPIE + quy trình EUV thế hệ tiếp theo' được tổ chức gần đây tại Monterey, California, Hoa Kỳ.
Công nghệ này đã được áp dụng cho hơn 1 triệu quy trình wafer, bao gồm một số lớp sản xuất của bộ xử lý thế hệ tiếp theo 'Panther Lake'. Một đại diện của Intel Foundry cho biết: "Chúng tôi đã đạt được kết quả đáp ứng mong đợi về độ chính xác chồng chéo (overlay), thông lượng (throughput) và tỷ lệ hoạt động".
Đặc biệt, sản phẩm được sản xuất bằng quy trình 18A của Intel với công nghệ cao NA đã ghi nhận hiệu suất tương đương hoặc vượt trội so với các sản phẩm dựa trên nền tảng NXE với thông số 0.33 NA.
Trong hệ thống hỗ trợ khách hàng, Intel Foundry đang cung cấp kế hoạch 'xếp lớp' và công nghệ 'stitching' cùng với bộ giải pháp thiết kế quy trình, nhằm tận dụng lợi thế của công nghệ cao NA trong khi vẫn duy trì tiêu chuẩn mặt nạ 6 inch.
Trong ba năm qua, hai công ty đã dẫn dắt sáng kiến 'định dạng mặt nạ lớn' để tích hợp hệ sinh thái mặt nạ, đồng thời hỗ trợ ngắn hạn dựa trên mặt nạ 6 inch và chuyển đổi sang định dạng mặt nạ lớn 6x12 inch trong tương lai.
Christophe Fouquet, Giám đốc điều hành ASML, đã đánh giá cao Intel Foundry là một trong những nhà lãnh đạo chủ chốt trong việc áp dụng công nghệ cao NA và ghi nhận nỗ lực tiêu chuẩn hóa và đổi mới mặt nạ.
Naga Chandrasekaran, đồng Giám đốc điều hành Intel Foundry, cũng cho biết: "Chúng tôi sẽ tiếp tục thúc đẩy phát triển hạ tầng cho việc mở rộng EUV cao NA thông qua hợp tác với ASML và toàn bộ hệ sinh thái ngành công nghiệp".
* Bài viết này được dịch tự động bằng AI.
© Bản quyền thuộc về Thời báo Kinh tế AJU & www.ajunews.com: Việc sử dụng các nội dung đăng tải trên vietnam. kyungjeilbo.com phải có sự đồng ý bằng văn bản của Aju News Corporation.